机译:晶体SrHfO_3直接在Ge(001)上的原子层沉积,用于高k电介质应用
机译:用于高k电介质应用的原子层沉积在Ge(001)上沉积SrZrO_3晶体
机译:通过在锗上沉积原子层沉积的ZrO_2 / La_2O_3电介质的后沉积退火来稳定非常高k的ZrO_2相
机译:原子层沉积的成核,生长和后沉积退火(ALD)高k栅极介电层
机译:镧基氧化物的原子层沉积,用于高K栅极电介质应用。
机译:具有高K原子层沉积介电材料绝缘层的CMUT
机译:Ge和III-V MOS通道上高k介电层的原子层沉积